机译:高效YSZ电解质薄膜SOFC的直流反应磁控溅射沉积工艺优化。
机译:通过HIPIMS / DC混合磁控溅射工艺沉积的用于IT-SOFC应用的La9.33 sub> Si6 sub> O26 sub>电解质薄膜
机译:通过HIPIMS / DC混合磁控溅射工艺沉积的IT_SOFC应用La_(9.33)Si6O_(26)电解质薄膜
机译:沉积时间对由反应性DC磁控溅射沉积的TiAln薄膜结构的影响
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:通过单脉冲激光沉积工艺制备Y2O3掺杂氧化锆/氧化G二氧化铈双层电解质薄膜SOFC的SOFC电池。
机译:高效YsZ电解质薄膜sOFC直流反应磁控溅射沉积工艺优化
机译:磁控溅射沉积电解质和阴极薄膜。